NGHIÊN cứu xác ĐỊNH TRẠNG THÁI mỏi của lớp TĂNG bền bề mặt TRONG QUÁ TRÌNH làm VIỆC BẰNG PHƯƠNG PHÁP NHIỄU xạ x QUANG

80 531 0
NGHIÊN cứu xác ĐỊNH TRẠNG THÁI mỏi của lớp TĂNG bền bề mặt TRONG QUÁ TRÌNH làm VIỆC BẰNG PHƯƠNG PHÁP NHIỄU xạ x QUANG

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

Thông tin tài liệu

M ωL ω TRAσG T A QUY T Đ σH GIAτ Đ TÀI XÁω σH σ ω A ωÁσ ψ H σG D σ δụ δ ωH KHτA H ω i δ I ωAε ĐτAσ iii δ I ω ε σ iv Tịε T T v ε ω δ ω vii DAσH SÁωH ωÁω ωH VI T T T .ix DAσH SÁωH ωÁω HỊσH xi DAσH SÁωH ωÁω ψ σG xiii ωh ng 1μ T NG QUAN QUAN .1 ε c tiêu đ tƠi .γ β Đ i t γ Ph ng vƠ ph m vi nghiên c u γ ng pháp nghiên c u .γ Tính m i c a đ tƠi η K t cấu c a lu n văn t t nghiệp .4 ωh ng 2μ ω S Lụ THUY T η β.1 ω s lỦ thuy t m i .η β.1.1 Hiện t ng m i c a kim lo i .η β.1.β σh ng y u t nh h ng đ n đ b n m i β.1.γ ω ch lan truy n v t n t m i 1β β.β ω s lỦ thuy t v m điện l p mƠng m ng ωrôm 1η β.β.1 ω s lỦ thuy t c a trình m điện .1η β.β.β ω s lỦ thuy t c a trình m ωrôm .ββ β.β.γ ωác ph ng pháp đo đ bám dính l p m βη β.γ σguyên lỦ nhiễu x tia X mƠng m ng .β7 vii β.γ.1 Tia X vƠ s phát sinh tia X β7 β.γ.β Hiện t β.γ.γ Ph ng c b n βλ ng trình ψragg γβ β.γ.4 Phơn tích phổ nhiễu x tia X γ4 ωh ng 3μ Đ XU T THI T K ωHI TI T M U VÀ T O MÀNG M NG ÔM TR ểN N N TH ÉP ω45 ψ NG PH ωR ωRÔ TRể THÉ ỄP M ĐI N .40 NG PH PHỄ γ.1 Đ xuất thi t k chi ti t m u cho thí nghiệm m i u n .40 γ.1.1 ω s t o m u thí nghiệm 40 γ.1.β ε u thí nghiệm ch t o thép ω4η .41 γ.β T o mƠng m ng ωrôm ph ng pháp m điện 4β γ.β.1 ωhu n b m u .4β γ.β.β Tính toán ch đ m ωrôm 4γ ωh ng 4μ TH THệệ NGHI M M I U N VÀ NHI U X TIA X 47 4.1 Thí nghiệm m i u n 47 4.1.1 εáy Thí nghiệm m i u n 47 4.1.β Tính toán l c P tác d ng lên m u thí nghiệm 48 4.1.γ Quy ho ch th c nghiệm .4λ 4.1.4 Thí nghiệm m i u n η4 4.1.η X lỦ m u sau t o m i u n ηθ 4.β σhiễu x tia X η7 4.β.1 Thi t b nhiễu x X' Pert Pro η7 4.β.β Tính toán góc nhiễu x η7 ωh ng 5μ K T QU VÀ TH O LU N θ8 η.1 K t qu θ8 η.β Th o lu n θ8 TÀI LI U THAM KH O 70 viii DANH SỄωH ωỄω ωH VI T T T λ ωhi u dƠi sóng c a tia X θ ,θ Góc ψragg có vƠ ng suất βθ Góc nhiễu x h, k , l ωác ch s εiller ( h, k , l ) εặt nhiễu x d ( h , k ,l ) Kho ng cách mặt m ng c a mặt nhiễu x (h,k,l) σ ng suất Ń|| ng suất d phẳng mƠng m ng ε ψi n d ng E ,ν εô-đun đƠn hồi Young vƠ hệ s Poisson K Hằng s p V trí đ nh c a m t đ ϕ Góc gi a pháp n c a m u th v i mặt phẳng c a tia t i vƠ tia nhiễu ng suất x ph ψ ,ψ ng pháp nhiễu x nghiêng m t bên Góc gi a pháp n c a mặt nhiễu x tia X t i v i pháp n c a m u ph η0 ng nhiễu x tia X ng pháp nhiễu x nghiêng Iso Góc gi a tia t i v i mặt phẳng pháp n c a m u vƠ ph suất c a kỹ thu t c đ nh η ph ng đo ng ng pháp nhiễu x nghiêng m t bên Góc gi a tia t i v i pháp n c a mặt phẳng nhiễu x c a kỹ thu t c đ nh ph ng pháp nhiễu x nghiêng m t bên α, β Góc gi a tia t i vƠ nhiễu x v i pháp n c a m u LPA Hệ s δorentz - Phơn c c - Hấp thu z, y S l µ Hệ s hấp thu n tính ng tia X có vƠ hiệu ch nh hệ s δPA ix I0 , I ω M,N Hệ s góc vƠ hệ s chặn c a đ li σgh ch đ o c a hệ s δPA a, b, c ωác thông s m ng tinh thể aijX,Y εa tr n chuyển đổi từ hệ t a đ tham chi u (X, Y = C, L, S) XSA Phơn tích ng suất tia X (X-ray stress analysis) ng đ tia X t i vƠ tia X nhiễu x ng thẳng biểu đồ Sinβ Hệ s hấp thu hệ s suy gi m chi u dƠi m Hệ s hấp thu kh i l ng ρ ε t đ kh i l ń1/e ωhi u sơu thấm 1/e {ci} Hệ t a đ tinh thể {si} Hệ t a đ m u ℑ HƠm giao thoa K0, K Vect c a chùm tia X t i vƠ chùm tia tán x Q Vect tán x ng N1,N2,N3 S ô đ n v c a tinh thể đ n R ψán kính giác k c V n t c ánh sáng chơn không B, β2θ ψ r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x x DANH SỄωH ωỄω HÌNH 2.1μ S tích lũy phá h y m i c a kim lo i .η Hình 2.1 Hình 2.2 2.2μ Đ ng cong m i Wöhler θ Hình 2.3 2.3μ Đ ng cong phá h y m i thép ω4η d ng ph ng trình Stussi 2.4μ σh ng n i có t p trung ng suất 11 Hình 2.4 Hình 2.5 2.5μ ωác pha đ ng cong m i Wöhler 1β Hình 2.6 2.6μ σh ng giai đo n lan truy n v t n t m i 1γ Hình 2.7 2.7μ S đồ hệ m điện 1θ Hình 2.8 2.8μ Kỹ thu t b trí anot để l p m đồng đ u 1λ Hình 2.λ 2.λμ Dùng mƠn che để phơn b l i dòng điện β0 Hình 2.10 2.10μ δ p m ωrôm c ng ββ 2.11μ δ p m ωrôm m ng đặc .βγ Hình 2.11 Hình 2.12 2.12μ Đo đ bám dính l p m theo ph ng pháp bẻ g p λ00 βθ Hình 2.13 2.13μ S đồ đo đ bám dính ph ng pháp tách c h c β7 2.14μ S đồ nguyên lỦ ng phát tia X β7 Hình 2.14 Hình 2.15 2.15μ Quá trình phát x tia X c a nguyên t (a)ν m c l ng s cấp (b)ν phổ phát x tia X c a anot (c) β8 Hình 2.16 2.16μ Đ ng hấp th tia X .βλ Hình 2.17 2.17μ Xơy d ng hình h c c a vect tán x γ0 2.18μ Ph Hình 2.18 ng trình ψragg từ ph Hình 2.1λ 2.1λμ Hiệu ch nh n n c a đ ng diện hình h c γβ ng nhiễu x .γ4 Hình 2.20 2.20μ Ph ng pháp n a b r ng .γθ Hình 2.21 2.21μ Ph ng pháp tr ng tơm γ7 Hình 2.22 2.22μ V ch nhiễu x b d ch chuyển vƠ m r ng ng suất .γ7 Hình 3.1 3.1μ εô hình máy t o m i đa 40 Hình 3.2 3.2μ S đồ nguyên lỦ t o m i u n 41 Hình 3.3 3.3μ S đồ chất t i lên m u đ ng kính quay tròn v i tần s , 1/s 41 Hình 3.4 3.4μ ψ n v kỹ thu t m u thí nghiệm .4β xi 3.5μ ε u thí nghiệm sau gia công ph Hình 3.5 ng pháp c t dơy 4γ 3.6μ ε u thí nghiệm sau m ωrôm 4η Hình 3.6 Hình 3.7 3.7μ Đo chi u dƠy l p m ph ng pháp ET 4θ Hình 4.1μ εáy thí nghiệm m i u n 47 Hình 4.2μ S đồ chất t i lên m u thí nghiệm 48 Hình 4.3μ εặt c t nguy hiểm t i phần lƠm việc c a m u .48 Hình 4.4μ ε u thí nghiệm sau t o m i u n η4 Hình 4.5μ εặt đ t gưy c a m u thí nghiệm sau m i u n ηη Hình 4.6μ Đ ng cong m i c a m u thí nghiệm theo d ng ph ng trình Stussi ηθ Hình 4.7μ Phần lƠm việc c a m u sau c t dơy (WEDε) ηθ xii DANH SỄωH ωỄω ψ NG 2.1μ S liệu σf c a m t s kim lo i θ ψ ng 2.1 ψ ng 2.2 2.2μ S liệu th c nghiệm kích th c h t nh h ng đ n đ b n m i λ ψ ng 2.3 2.3μ Giá tr t i h n Katb c a m t s v t liệu 1η 2.4μ Đ ψ ng 2.4 ng l ng điện hóa K c a kim lo i 18 ψ ng 2.5 2.5μ ψán kính h t tinh thể theo thang 1β .β0 ψ ng 2.6 2.6μ ωác dung d ch m ωrôm β4 ψ ng 2.7 2.7μ ωác v t liệu ch t o anot βλ ψ ng 2.88μ Hằng s m ng c a m t s kim lo i có cấu trúc l p ph vƠ l p ph ng tơm mặt (Fωω) ng tơm kh i (ψωω) .γβ ψ ng 2.λ 2.λμ Kho ng cách phẳng d gi a mặt tinh thể γγ 2.10μ Hệ s A c a ph ψ ng 2.10 ng pháp Ω vƠ γ4 ψ ng 2.11 2.11μ Hằng s Scherrer c a m t vƠi d ng tinh thể γ8 ψ ng 3.1 3.1μ ωác thƠnh phần nguyên t c a thép ω4η 4β ψ ng 3.2 3.2μ Dung d ch m vƠ ch đ m .44 ψ ng 3.3 3.3μ ωhi u dƠy l p m đo ph ng pháp ET 4η ψ ng 4.1 4.1μ Thông s kỹ thu t c a máy .47 ψ ng 4.2 4.2μ K t qu c a thí nghiệm m i u n η4 xiii ng ωh T NG QUAN Hiện t th i gian ng m i lƠ t ng ph c t p, x y ng suất thay đổi theo ng suất nƠy tồn t i v t liệu chi ti t máy có tr s nh h n gi i h n b n, th m chí nh h n gi i h n đƠn hồi c a v t liệu chi ti t máy Tuy nhiên l i gơy nh ng d ng h h ng trầm tr ng nhất, không ph c hồi đ c, gơy nh ng h u qu nguy hiểm vƠ tổn thất nghiêm tr ng v kinh t [1] Gi i h n m i c a m t chi ti t ph thu c vƠo nhi u nhơn t ph c t p, nh ng nhơn t nƠy h thấp gi i h n m i c a chi ti t Trong kỹ thu t ngoƠi việc ch n v t liệu ch t o có đ b n cao vƠ k t cấu nh , ng i ta tr ng tìm cách nơng cao gi i h n m i c a chi ti t biện pháp ch t o vƠ công nghệ ψên c nh biện pháp ch t o ng chất l i ta dùng nh ng biện pháp công nghệ nhằm nơng cao ng b mặt c a chi ti t ợ i v i chi ti t ch u u n xo n, ng suất mặt ngoƠi l n nhất, s phát sinh vƠ phát triển nh ng v t n t v m i th từ mặt ngoƠi, công nghệ x lỦ b mặt cƠng đ ng b t đầu c quan tơm có Ủ nghĩa quan tr ng vƠ quy t đ nh nhi u đ n tính chất c a v t liệu ε t nh ng gi i pháp lƠ t o m t l p b mặt có kh đáp ng u kiện lƠm việc nh ch u mƠi mòn, ch ng ăn mòn, ch u nhiệt ωó thể kể đ n ph mặt th ng pháp x lỦ b ng dùng nh nhiệt luyện, hoá nhiệt luyện, t o l p ph lên b mặt (ε , nhúng, phun ph …) ωông nghệ t o l p ph lên b mặt th c chất lƠ t o mƠng m ng (thin film) l p v t liệu r n có đ dƠy cỡ từ vƠi nm đ n cỡ 10 m [1θ] ph lên v t liệu n n nh kim lo i, th y tinh, g m s , polyme,…Hiện nay, mƠng m ng đ nhi u ngƠnh kỹ thu t cao vƠ đư phát triển thêm nhi u ph c áp d ng ng pháp t o mƠng m ng m i, nhiên, ph i tùy thu c vƠo m c đích nghiên c u, lo i v t liệu t o mƠng, u kiện v thi t b vƠ kh công nghệ để l a ch n ph phù h p ωác ph ng pháp t o mƠng m ng đ ng pháp c s d ng r ng rưi bao gồmμ Ph Ph Ph ng pháp v t lỦ ng pháp nhiệt ψ c bay chơn không ng pháp t o mƠng m ng Ph Epitaxy chùm phơn t δaser Ph Quá trình ion ng pháp phún x ωVD σhiệt Sol - Gel ψ c bay ph n ng ε ion Trong ngƠnh c khí, ph ωVD δaser ωVD Plasma ng pháp hóa h c ng pháp m điện đư vƠ đ nh ng tính vƠ ng d ng v c áp d ng r ng rưi t tr i c a Hai thu c tính quan tr ng c a l p m lƠ s bám dính vƠo b mặt kim lo i n n vƠ đ b n c a l p m Trong ngƠnh ô tô, l p m ph ωrôm lƠm tăng đ c ng b mặt, gi m ma sát, ch ng mƠi mòn cho chi ti t d ng tr c lƠ kim lo i c ng, giòn, có đ nóng ch y cao ψ mặt ωrôm đ c bao ph b i m t l p mƠng m ng ωrβτγ, nên có ánh b c vƠ kh ch ng trầy x c cao V i nh ng đặc tính v t tr i đó, th i gian qua đư có nhi u công trình nghiên c u v mƠng m ng ωrôm nh μ − Thí nghiệm vƠ kh o sát s h c v l p ωrôm c ng ch ng ăn mòn v i chi u dƠy từ vƠi m đ n vƠi trăm m [β0] ε c đích c a nghiên c u nƠy lƠ thƠnh l p m i quan hệ gi a m t đ dòng điện phơn, m t đ v t n t vƠ ng suất d kéoν lƠm rõ vai trò c a v t n t t vi ng suất d phát triểnν tìm ph ng pháp để c i thiện tính toƠn vẹn k t cấu c a l p m ωrôm c ng nh h − ng c a x lỦ nhiệt lên biên d ng xung c a dòng điện phơn, ng suất d c a l p m ωrôm [β1] σghiên c u nƠy quan tơm đ n s thay đổi c a ch đ xung, l c ađ − ng thay đổi ng suất d x lỦ nhiệt liên quan đ n giá tr n a b r ng ng nhiễu x tia X Đo ng suất th c trình m i [γ0] Kh o sát ng x c a ng suất d trình m i ph ng pháp nhiễu x tia X để lƠm rõ c h c phá h y m i vƠ d đoán s phá h y ban đầu Để phát v t n t ban đầu từ s thay đổi β c a ng suất d lƠ khó thay đổi không đáng kể trình m i Tuy nhiên, n u kiểm tra ng suất tia X v i l c tác d ng max trình m i t i m t v trí s tìm đ phóng b i v t n t m c v t n t ban đầu b i ng suất s dần đ ng suất th c xác đ nh đ c gi i c lƠ tổng c a ng suất d vƠ ng suất t i − Đồ th d – Sin2ψ c a mƠng m ng ωrôm [γ1] ψƠi báo nƠy trình bƠy k t qu nghiên c u v s thay đổi ng x c a ωrôm chuyển đổi từ pha n a ổn đ nh ậW, lƠ nguyên nhơn t o ng suất gi a v t liệu n n vƠ mƠng m ng đ n pha αậW Đ b n v t liệu lƠ m t vấn đ mƠ khoa h c kỹ thu t đ i quan tơm, nhi u ph ng pháp khác đ lo i Trong s đó, ph sai h ng m i c ng d ng để nghiên c u kh o sát đ b n kim ng pháp nhiễu x tia X đóng vai trò quan tr ng σó đánh giá giai đo n s m c a l p ωrôm tăng c ng b mặt trình lƠm việc Đơy lƠ m t việc lƠm m i, khó khăn, đòi h i kỹ thu t ph c t p, thi t b phơn tích đ i σhiễu x tia X mang l i nh ng hiểu bi t cần thi t v nh ng sai h ng m i nh h ng đ n đ b n vƠ tính khác c a mƠng m ng σó không ch đo ng suất mƠ tr thƠnh m t phần c a khoa h c v t liệu vƠ lƠ công c thi u công nghiệp vƠ kỹ thu t M c ti tiêêu đ tƠi S d ng ph ng pháp nhiễu x tia X để kh o sát tr ng thái m i c a mƠng m ng ωrôm n n thép ω4η Đ i t Đ it ng vƠ ph m vi nghi nghiêên cứu ng nghiên c u ch y u c a đ tƠi nƠy lƠ l p mƠng m ng ωrôm Ph m vi nghiên c u lƠ đánh giá s bi n đổi m ng tinh thể c a mƠng m ng ωrôm c ng n n thép ω4η ch u u n Ph − ng ph áp nghi phá nghiêên cứu D a vƠo lỦ thuy t mƠng m ng vƠ nghiên c u đư đ c công b t p chí khoa h c kỹ thu t qu c t − D a vƠo tƠi liệu có th gi i v lỦ thuy t nhiễu x tia X để tìm hiểu cách th c nhiễu x c a tia X v t liệu mƠng m ng ωrôm γ nh nhi u x th ứ1 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x 1 β β β h +k =l = = β4.0γ414θ dβ aβ Suy raμ = 4.λ0β4θγ d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = nh nhi u x th ứ2 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β 0 β β β h +k =l = = 48.0θ8βλ1 dβ aβ Suy raμ = θ.λγγ1γ0 d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ λ λ hβ + k β + l β = = 0.γ77 βd β aβ sin βθ = λ λ hβ + k β + l β = = 0.ηγ4 βd β aβ Suy raμ θ = ββ.18θ V y góc βθ = 44.γ70 Suy raμ θ = γβ.β7λ V y góc βθ = θ4.ηθ0 nh nhi u x th ứ3 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β 1 hβ + k β = l β = = 7β.10β4γ7 dβ aβ Suy raμ = 8.4λ1γ1η d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ Đỉ nh nhi u x th ứ4 Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β β hβ + k β = l β = = λθ.1γθη8β dβ aβ Suy raμ = λ.804λβθ d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = λ λ hβ + k β + l β = = 0.θη4 aβ βd β sin βθ = Suy raμ θ = 40.84λ V y góc βθ = 81.700 λ λ hβ + k β + l β = = 0.7ηη aβ βd β Suy raμ θ = 4λ.047 V y góc βθ = λ8.100 ηλ nh nhi u x th ứ5 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x γ β β β h +k =l = = 1β0.1707β8 dβ aβ Suy raμ = 10.λθββ41 d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = nh nhi u x th ứ6 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x β β β β β β h +k =l = = 144.β0487γ dβ aβ Suy raμ = 1β.008ηγγ d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ λ λ hβ + k β + l β = = 0.844 aβ βd β sin βθ = Suy raμ θ = ηθ.θ07 V y góc βθ = 11η.ββ0 λ λ hβ + k β + l β = = 0.λβ4 aβ βd β Suy raμ θ = θ7.θθ7 V y góc βθ = 1γη.γ40 nh nhi u x th ứ7 Đỉ Đỉnh thứ Thông s m ng c a ωrμ a = 0.β88470 h k l εặt nhiễu x γ β β β β h +k =l = = 1θ8.βγλ01λ dβ aβ Suy raμ = 1β.λ70θλ8 d ψ c sóngμ λCu = 0.1η40ηθ sin βθ = λ λ hβ + k β + l β = = 0.λλλ βd β aβ Suy raμ θ = 87.η80 V y góc βθ = 17η.1θ0 θ0 − K t qu nhi u x μ nh phổ nhiễu x c a mƠng m ng ωrôm M u1 M u2 θ1 M u3 M u4 [ 14 02 θβ ] M u5 M u6 θγ M u7 M u nh p t i {211} Vị tr tríí đỉ đỉnh ψ r ng ψ 81.7θγ0 0.λ0θ0 ± 0.0λβ0 β 81.ληγ0 1.0λθ0 ± 0.0η80 γ 81.7λ10 1.β440 ± 0.0βλ0 8β.0100 1.40β0 ± 0.07η0 η 81.λ100 1.4γ10 ± 0.0γβ0 θ 81.77γ0 1.4870 ± 0.07θ0 81.78β0 1.ηγ70 ± 0.04β0 θ4 Tính sai s cho b r ng B [γβ]μ − � ψ r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x μ B= � KSλ + β K Dε tan θ DV cos θ (4.27) HƠm b r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x B = f ( yi ) c a n bi n s ng u nhiên yi (i = ÷ n) đ c xác đ nh ph ng trìnhμ β ⎛ ∂B ⎞ β ⎟⎟ σ yi σ = ∑ ⎜⎜ ⎝ ∂yi ⎠ β B n Đ i v i bi n ng u nhiên yi ta có ph (4.28) ng trình sau xác đ nh dung saiμ (4.2λ) σ yβi = yi Đ o hƠm theo bi n ng u nhiên c a hƠm B ta cóμ − K S λ sin θ + β K Dε β DV cos θ cos β θ ∂B = KSλ ∂yi + β K Dε tan θ DV cos θ (4.30) ⇒ Do dung sai c a hƠm lƠν β ⎛ ∂B ⎞ ⎟⎟ yi σ = ∑ ⎜⎜ ⎝ ∂yi ⎠ β B � n (4.31) Từ λη% tin c y c a hƠm f lƠμ ∆B = ±1.λθσ B (4.32) Thay thông s nh μ Hằng s Scherrer (KS), hệ s t lệ (KD), hệ s bi n d ng t vi (ł), b c sóng chùm tia X ( ), góc ψragg ( ) vƠo công th c từ (4.β8) đ n (4.γ1), kho ng tin c y đ c xác đ nh θη − − ψiểu đồ m i quan hệ ψ – σ c a mƠng m ng ωrômμ ψiểu đồ m i quan hệ ψ – N c a mƠng m ng ωrômμ θθ − ψiểu đồ m i quan hệ ψ – N c a mƠng m ng ωrôm vƠ n n thép ω4η (pha Feα)μ θ7 ωh ng K T QU VÀ TH O LU N 5.1 K t qu Th c nghiệm cho thấy b r ng m t n a đ nh phổ nhiễu x (b r ng ψ) c a mƠng m ng ωrôm có xu h ng tăng (0.λ0θ0 ÷ 1.ηγ70) ng v i m c ng suất u n tăng dần khác (1η0σ/mmβ, 170σ/mmβ, β00σ/mmβ, βγ0σ/mmβ, βθ0σ/mmβ, β80σ/mmβ, γ00σ/mmβ) T ng t , b r ng ψ c a mƠng m ng ωrôm gi m s chu kỳ m i σ tăng Qua đó, d đoán đ c tuổi th c a chi ti t máy có l p mƠng m ng ωrôm tăng b n b mặt ωác điểm d liệu thí nghiệm không trùng v i đ nghiệm theo d ng ph ng cong m i c a m u thí ng trình Stussi lƠ doμ ψên c nh β y u t tác đ ng có y u t tác đ ng khác nh nhiệt đ môi tr ng, đ ổn đ nh c a hệ th ng công nghệ, đ xác gia công nh phổ nhiễu x c a m u thí nghiệm có β giá tr (bao gồm v trí đ nh p, c ng đ vƠ b r ng m t n a ψ) tách biệt t i m i đ nh vìμ εƠng m ng ωrôm vƠ n n thép ω4η có cấu trúc tinh thể l p ph ng tơm kh i (ψωω) nên v trí đ nh nhiễu x trùng vƠ che khuất l n (hiện t ng "Stacking") 5.2 Th o lu n Qua trình nghiên c u vƠ th c nghiệm, lu n văn đư hoƠn thƠnh m c tiêuμ − Từ mô hình máy thí nghiệm m i u n t i phòng thí nghiệm Reme, tr ng Đ i h c S ph m Kỹ thu t, đư đ xuất thi t k chi ti t m u cho thí nghiệm u n quay − T o mƠng m ng ωrôm n n thép ω4η ph ng pháp m ion − Xơy d ng biểu đồ quan hệ gi a b r ng ψ c a đ ng nhiễu x v i s chu kỳ m i σ c a m u thí nghiệm Trong trình nghiên c u tr ng thái m i c a l p ωrôm tăng b n b mặt vƠ từ ng d ng r ng rưi c a mƠng m ng, đ tƠi nƠy phát triển nghiên c u tr ng thái m i c a mƠng m ng đa l p v i nhi u v t liệu khác ph x tia X θ8 ng pháp nhiễu Do h n ch v th i gian, kinh t , trang thi t b ph c v cho nghiên c u nên tác gi có m t s đ xuất cho nghiên c u ti p theo nh sauμ Tăng s l − nh h − ng m u thí nghiệm lên nhi u lần để xem xét nhi u y u t ng đ n k t qu thí nghiệm m i u n Tích h p thi t b nhiễu x tia X máy thí nghiệm m i (n u đ đ nh k t qu nhiễu x th c m u ch u m i u n, h n ch đ c) để xác c m t s y u t tác đ ng gơy sai s c a k t qu thí nghiệm − T o mƠng m ng ωrôm ph lƠm c s so sánh s liệu th c nghiệm θλ ng pháp khác nh PVD, ωVD để TÀI LI U THAM KH O TI NG VI T [1] σgô Văn Quy t Cơ sở lý thuyết mỏi σXψ Giáo d c,β000 [β] Ph m σg c σguyên Giáo trình Kỹ thuật Phân tích Vật lý σXψ Khoa h c vƠ Kỹ thu t, β00θ [γ] ψ.σ.Arzamaxov Vật liệu học σXψ Giáo d c, β004 [4] Trần εinh HoƠng Sổ tay mạ điện σXψ ψách khoa HƠ σ i, β01γ [η] σguyễn Kh ng Những quy trình kỹ thuật mạ điện σXψ Khoa h c vƠ kỹ thu t, 1λλγ [θ] Phùng Rơn Quy hoạch thực nghiệm ứng dụng σXψ Khoa h c Kỹ Thu t, β00γ [7] Phan Văn Khôi Tuổi thọ mỏi kết cấu thép biển σXψ Khoa h c Kỹ Thu t HƠ σ i, 1λλ7 [8] Văn Qu c H u Xác định tỷ lệ pha thép không gỉ song pha Ferrit Austenite có độ bền cao nhiễu xạ X – quang δu n văn Th c sỹ ĐHSPKT Tp Hồ ωhí εinh, β011 [λ] σguyễn Vũ δong Nghiên cứu phát triển phần mềm phân tích vật liệu X ậ quang δu n văn Th c sỹ ĐHSPKT Tp Hồ ωhí εinh, β01γ [10] Đặng H u Tr ng Nghiên cứu, phát triển máy thí nghiệm mỏi cho chi tiết máy δu n văn Th c sỹ ĐHSPKT Tp Hồ ωhí εinh, β011 [11] Thơn Xuơn Tình Nghiên cứu chế tạo lớp mạ Crôm gia cường ống nano cacbon δu n văn Th c sỹ ĐH ωông σghệ Tp Hồ ωhí εinh, β011 [1β] Đặng H u Phúc Đồ án chế tạo màng khảo sát tính chất màng ZnO.Al phương pháp Sol – Gel Gi ng viên h [1γ] ng d nμ TS Trần Quang Trung σguyễn Tr ng Hiệp Chi tiết máy – Tập σXψ Giáo D c, β00θ 70 TI NG N [14] ÀI NGOÀ ω NGO δe ωhi ωuong Development of automated Xậray stress analyzer with its application in stress measurement of Texture materials Doctoral Thesis, σagaoka University of Technology, β004 [1η] δe ωhi ωuong Development of automated Xậray stress measurement with its application Academic, σagaoka University of Technology, 1λλλ [1θ] εario ψirkholz Thin film analysis by x-ray scattering Wiley ậ VωH Verlag GmbH & ωo KGaA, Weinheim β00θ [17] ψ.D.ωullity and S.R.Stock Elements of X–ray Diffraction, third edition University of σotre Dame, β004 [18] Viktor Hauk Structural and residual stress analysis by nondestructive method Elsevier, 1λλ7 [1λ] Ismail ω.σoyan and Jerome ψ.ωohen Residual stress ậ Measurement by diffraction and interpretation Springer ậ Verlag σew York Inc, 1λ87 [β0] Y.Kobayashi, J.σagasawa Affect of heat treatment on residual stress profile of pulse-plated crack-free Cr layer International ωentre for Diffraction Data, β00β [β1] Wulf Pfeiffer, ωhristof Koplin, E.Reisacher, J.Wenzel Residual stress and Strength of Hard Chromium Coating εaterial Science Forum Vol.θ81 pp 1γγ-1γ8, Trans Tech Publication Switzerland, β011 [ββ] ψal Seal Engineering Chrome Plating ậ A guide for Selecting the type of Chrome Plating for use in Contact with BAL SEAL in rotary and Reciprocating service Technical report TRậ14(Rev.F) [βγ] σikolaj Ganev and Ivo Kraus Engineering application of x-ray stress analysis Advances in x-ray analysis, vol.44 ậ International ωentre for Diffraction Data, β001 [β4] εasahide Gotoh Affect of the residual stress on the mechanical strength of the thin films Graduate school, Kanazawa University Japan, β00β 71 [βη] δ.S.Suominen Xậray study of residual stress in thin Chromium Metallization on glass substrates American Stress Technologies, Inc ậ International ωentre for Diffraction Data, 1λλ7 [βθ] Horonori σishihata, Shinậichi τhya and Yasuo Yoshioka Measurement of actual stresses during fatigue process εusashi Institute of Technology, Setagaya Tokyo 1η8, Japan [β7] I.ω.σoyan and ω.ω.Goldsmith Origins of oscillation in d vs Sin2ψ plots measured from tungsten thin films Iψε T.J Watson Research ωenter, Yorktown Hieghts, σY 10ηλ8 [β8] δe ωhi ωuong Computation on standard deviation and variation in phrasal quantitative determination using X-ray diffraction The university of technical and education of Hochiminh ωity, Vietnam 7β S K L 0 [...]... 0.ηγγλ Trong nghiên c u nhiễu x tia X th ng dùng b c x đ n s c, ng i ta dùng tấm l c lƠ m t kim lo i hấp th K vƠ cho b c x Kα đi qua Hình 2.16μ Đ 2.3.2 Hi n t ng h p th tia X [1θ] ng c b n Trong quá trình quang ion hóa, các electron đ nguyên t khi năng l ng vƠ đ ng l c gi i phóng kh i liên k t ng c a chùm tia b c x gơy x o tr n electron Quang ion hóa thu c v quá trình tán x đƠn hồi − Đ l n c a sóng tán x. .. thuy t của qu quá trìình m đi n ơn a Sự đi n ph phơ ε điện lƠ m t quá trình điện phơn, trong đó anot x y ra quá trình oxy hóa 1η (hòa tan kim lo i hay gi i phóng khí oxy) còn catot x y ra quá trình kh (kh ion kim lo i từ dung d ch thƠnh l p kim lo i bám trên v t m hay quá trình ph gi i phóng hydro) khi có dòng điện m t chi u đi qua dung d ch điện phơn Đi u kiện t o thƠnh l p m điện [η]μ − Trên anot x y...− Ph ng pháp quy ho ch th c nghiệm − Ph ng pháp đánh giá chất l − Ti n hƠnh thí nghiệm nhiễu x để thu th p s liệu th c nghiệm t i Trung tơm ng l p m h t nhơn ThƠnh Ph Hồ ωhí εinh sau đó d a vƠo lỦ thuy t v nhiễu x vƠ x lỦ s liệu nhiễu x để x c đ nh đ bi n d ng c a mƠng m ng ωrôm 4.T 4.Tíính m i của đ tƠi Thi t l p, x c đ nh m i liên hệ gi a b r ng ψ c a đ nh nhiễu x v i s chu kỳ m i u... chu kỳ ng suất tăng lên ψên trong m u vƠ trên b mặt m u ti p t c diễn ra quá trình (a), (b), (c) nh giai đo n I để hình thƠnh v t n t m i có chi u dƠi x c đ nh Giai đo n nƠy, s chu kỳ ng suất vƠo kho ng 1/100 tổng s chu kỳ tuổi th σ c a m u Hình 2.6μ Nh ng giai đo n lan truy n v t nứt m i [1] σ u ti p t c gi m ng suất S, bên trong m u ti p t c x y ra quá trình (a), (b), (c), còn trên b mặt m u đư hình... ch chuyển từ m c nƠo mƠ ta có năng l t ng tia X ng ngμ σ u điện t chuyển từ δ v K ta có b c x Kαν n u điện t chuyển từ ε v K ta có b c x K ν n u điện t chuyển từ ε v δ ta có b c x δ σgoƠi ra, m i l p nguyên t còn có các phơn l p nên v ch Kα có các v ch Kα1, Kαβ át x tia X của nguy á tr trìình ph phá nguyêên t (a); mức năng l Hình 2.15μ Qu Quá át x tia x của anot (c) [1θ] (b); ph ph phá β8 ng s c p... cho các b mặt bên ngoƠi c a các chi ti t máy ch u mƠi mòn cao Trên b mặt l p ωrôm có nhi u v t n t vƠ đ x p l n δ ng v t n t s tăng khi chi u dƠy l p m ωrôm tăng ôm cứng ωrô Hình 2.10μ L p m ωr ββ − δ p m ωrôm m ng đặcμ Th ng s d ng cho các b mặt vƠ đ ng kính trong c a các chi ti t δ p m có đặc điểm lƠ m ng vƠ rất đặc, b mặt nhẵn bóng không có r x p, ch ng ăn mòn, tuổi b n m i l n, đ c ng x p x 70HRω... IKμ S d ng IK nh s t o thu n l i cho quá trình hình thƠnh l p m có cấu t o tinh thể thô ωùng v i s tăng m t đ dòng, s l ng mầm tinh thể s tăng lên, nh v y cấu t o tinh thể l p m m n h t h n ε t đ dòng IK ch có thể tăng đ n m t gi i h n nhất đ nh, v � t quá gi i h n đó s lƠm r i lo n quá trình k t t a c a kim lo i S tăng m t đ dòng IK ch có thể ti n hƠnh đồng th i v i tăng nồng đ mu i kim lo i m m t cách... i điện gi i có mƠu tr ng b c, ánh xanh Tr ng l đ ng l ng riêng = θ.λ ÷ 7.1g/cmγ, nhiệt đ nóng ch y từ 17η0 ÷ 18000ω, ng điện hóa ϶ = 0.γβγg/Ah, điện th tiêu chu n ωr/ωrγ+ lƠ -0.74V ωr không b ăn mòn trong axit nitric vƠ axit sunfuric loưng nh ng ăn mòn nhanh trong axit clohydric Trong không khí, d i tác d ng c a các chất oxy hóa ωr b th đ ng vƠ t o thƠnh mƠng oxit trong su t rất kín lƠm cho ωr tr nên... dƠi lệch m ng trong tinh thểν Vμ Thể tích tinh thể 8 nh h − � ng của t ch ức t vi - Đ h tμ chứ Tổ ch c t vi do quá trình công nghệ luyện kim hay quá trình x lỦ nhiệt quy t đ nh σh ng quá trình nƠy t o ra cấu trúc h t khác nhau lƠm nh h ng l n đ n s c ch ng m i c a v t liệu, lƠm gi i h n m i gi m từ 1.7 ÷ β lần � Kích th theo ph c h t cũng nh h ng đ n đ b n m i, gi a chúng có m i liên hệ ng trình 1 (2.λ)... hẳn Trong môi tr ch u nh h ng ăn mòn, s c ch ng m i c a v t liệu s gi m rõ rệt V t liệu ng c a nồng đ môi tr ng, s chu kỳ chất t i, d ng ng suất 11 d nh h Hiện t tr ng của hi n t ng Fretting ng Fretting lƠ hiện t ng phá h y m i d ng ăn mòn vƠ s bƠo mòn c h c Hiện t i tác đ ng tr c ti p c a môi ng phá h y nƠy cùng lúc x y ra quá trình c h c vƠ quá trình lỦ ậ hóa Quá trình phá h y nƠy rất phổ bi n trong

Ngày đăng: 21/06/2016, 02:19

Từ khóa liên quan

Mục lục

Tài liệu cùng người dùng

Tài liệu liên quan