nghiên cứu tái chế photoresist phế thải làm phụ gia biến tính cao su nhựa kỹ thuật

123 340 0
nghiên cứu tái chế photoresist phế thải làm phụ gia biến tính cao su nhựa kỹ thuật

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

Thông tin tài liệu

TÓM TẮT NỘI DUNG NGHIÊN CỨU Phim cảm quang khô được ứng dụng phổ biến trong công nghệ sản xuất mạch in. Sau sử dụng, tất cả photoresist bị thải bỏ và được xác định là chất thải nguy hại. Hiện nay, nguồn thải chính trong khu vực là nhà máy FVC Fujitsu với thải lượng 15 – 16 tấn/ tháng. Phương pháp xử lý duy nhất hiện nay là đốt trong lò hai cấp. Kết quả nghiên cứu của đề tài xác nhận PR không chứa kim loại nặng ở mức độ nguy hiểm và dung môi hữu cơ. Về cơ bản PR gồm hai phần chính là este acrylic khâu mạch (91 – 93 %) thể hiện tính trơ khó phân hủy trong môi trường, và phần acrylat linh động (7 – 9 %). Đề tài thử nghiệm quá trình tạo blend polyme với PR để cố định acrylat linh động, đồng thời tạo khối monolith (blend polyme) có thể sử dụng được như vật liệu tái chế. Nghiên cứu đề xuất mẫu blend cao su thiên nhiên (NR) và blend cao su tổng hợp nitril (NBR) chứa khoảng 40 % PR với chất trợ tương hợp CSTNgAM và dầu hạt điều cho các blend tương ứng. Kiểm tra các đặc tính của mẫu vật liệu cho thấy sự có mặt của PR trong điều kiện nghiên cứu cho phép cải thiện tính chịu lão hoá, trương nở trong dung môi và chịu mài mòn của vật liệu, đồng thời không có sự rò rỉ của acrylat. Nghiên cứu cũng đề xuất một qui trình và dây chuyền tái chế PR cho hai nhóm sản phẩm: (i) đế giầy chịu dầu, gioăng chịu dầu, và (ii) gioăng ống ly tâm, gioăng kính dân dụng với công suất 10 tấn/ tháng có tính khả thi. i SUMMARY OF RESEARCH CONTENT Dry film photoresist is prevailingly used in production of printed wiring boards. After use, all photoresist materials are disposed as a hazardous material. The main source in the region is FVC Fujitsu factory, which disposed of 15 to 16 tons per month, merely by 2-stage burners. The study results confirmed that PR contains neither organic solvents nor heavy metals at any detrimental level. Basically, PR is consisted of two components, one is the inert hardly decomposable cross-linked acrylic ester (91-93 %), and the other is mobile acrylate (7-9 %). It is the objective of the study to test the formation of polymer blend with PR in order to fix its mobile acrylates, and at the same time, making monolithic blocks of polymer blend that can be used as a recycled material. We recommend the blends with natural rubber (NR) and nitrile rubber (NBR) containing around 40% PR and CSTNgAM as compatabilizer and cashew oil for respective blends. The testing of characteristics of samples showed the presence of PR, which, under the study conditions, makes it possible to improve the aging resistance, swelling in solvents and anti-abrasion of the resultant materials and more importantly, without percolation of acrylate. The study also proposes a feasible process and production line using recycled PR for two groups of products: (i) oil resistant shoes soles and washers, and (ii) washers for centrifugal pipes and civil glass with the aggregate capacity of 10 tons per month. ii Nội dung TÓM TẮT NỘI DUNG NGHIÊN CỨU i U SUMMARY OF RESEARCH CONTENT ii CHỮ VIẾT TẮT TỪ TIẾNG VIỆT vii CHỮ VIẾT TẮT TỪ TIẾNG ANH viii DANH SÁCH BẢNG VÀ HÌNH ix PHẦN MỞ ĐẦU 1 U 1.Tên đề tài 1 2. Mục tiêu 1 3. Nội dung nghiên cứu 1 4. Sản phẩm của đề tài 2 5 Tiến độ và trình bày báo cáo 2 5.1 Tiến độ thực hiện 2 5.2 Trình bày báo cáo 2 Chương I TÌNH HÌNH NGHIÊN CỨU TRONG VÀ NGOÀI NƯỚC 4 1.1 Giới thiệu 4 1.2 Nghiên cứu ứng dụng quang khắc 4 1.3 Tình hình nghiên cứu 5 1.3.1 Tình hình nghiên cứu ngoài nước 5 1.3.2 Các nghiên cứu trong nước 8 1.4 Cách tiếp cận của nghiên cứu 9 1.4.1 Photoresist phế thải và ảnh hưởng đến môi trường 9 1.4.2 Tái chế photoresist bằng blend polyme phù hợp 10 Kết luận chương I 12 Chương II PHƯƠNG PHÁP NGHIÊN CỨU VÀ NGUYÊN LIỆU SỬ DỤNG 14 2.1 Tương hợp blend chất đàn hồi - cơ sở của nghiên cứu 14 2.1.1 Các kiểu blend 14 2.1.2 Quá trình blend và tương hợp 15 2.1.2.1 Quá trình lưu biến 16 2.1.2.2 Phát triển hình thái 17 2.1.3 Các phương pháp tương hợp 19 2.2 Nguyên liệu sử dụng 19 2.2.1 Nguyên liệu chính (nền) 19 2.2.2 Nguyên liệu phụ trợ 19 iii 2.3 Phương pháp nghiên cứu 20 2.3.1 Khảo sát và điều tra về phát thải PR và quản lý 20 2.3.2 Nghiên cứu thành phần và độc tính của PR 20 2.3.3 Khảo sát các hệ blend 21 2.3.4 Đề xuất qui trình và phương án đầu tư dây chuyền tái chế 22 Chương III KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN 24 3.1 Quản lý photoresist phế thải 24 3.1.1 Tổng quan về quản lý CTNH trên địa bàn 24 3.1.1.1 Hệ thống văn bản pháp lý 24 3.1.1.2 Tổ chức quản lý CTNH 25 3.1.2 Thu gom, vận chuyển và xử lý CTNH 26 3.1.2.1 Quản lý CTNH 26 3.1.2.2 Tình hình thu gom, vận chuyển và xử lý CTNH 27 3.1.3 Nguồn phát sinh photoressit phế thải 28 3.1.3.1 Nguồn phát sinh 28 3.1.3.2 Lượng photoresist phế thải 29 3.1.3.3 Thu gom và xử lý 32 Kết luận mục 3.1 33 3.2 Photoresist phế thải và môi trường 35 3.2.1 Thành phần kim loại nặng 35 3.2.2 Thành phần của nhựa cảm quang phế thải 35 3.2.3 Hàm lượng chất tan trong PR 36 3.2.4 Hàm lượng acrylat tan trong nước 36 3.2.5 Đặc tính nhiệt của PR 37 3.2.6 Ảnh hưởng của photoresist phế thải đến môi trường 38 Kết luận mục 3.2 40 3.3 Thăm dò một số hệ blend với photoresist phế thải 41 3.3.1 Thăm dò hệ vật liệu trên cơ sở cao su tổng hợp NBR 42 3.3.1.1 Ảnh hưởng của hàm lượng PR và trợ tương hợp đến tính năng cơ lý 42 3.3.1.2 Ảnh hưởng của PR và trợ tương hợp đến tính trương nở 43 3.3.1.3 Ảnh hưởng của hàm lượng PR đến chế độ lưu hoá 44 3.3.1.4 Ảnh hưởng của PR và trợ tương hợp đến hình thái pha của blend NBR 45 3.3.2 Thăm dò hệ cao su thiên nhiên NR 45 3.3.2.1 Ảnh hưởng của hàm lượng PR và trợ tương hợp đến tính năng cơ lý 45 3.3.2.2 Ảnh hưởng của PR và trợ tương hợp đến tính trương nở 47 3.3.2.3 Ảnh hưởng của hàm lượng PR đến chế độ lưu hoá 47 iv 3.3.2.4 Ảnh hưởng của PR và trợ tương hợp đến hình thái pha của blend NR 47 3.3.3 Nhận xét chung về hệ thăm dò 48 3.3.3 Lực chọn hệ blend cho nghiên cứu tiếp theo 51 3.3.3.1 Tiêu chí lựa chọn 51 3.3.3.2 Chọn lựa hệ blend cho nghiên cứu tiếp theo 52 Kết luận mục 3.3 52 3.4 Điều chỉnh thành phần và chế độ gia công 54 3.4.1 Thiết lập đơn pha chế và công nghệ phù hợp 54 3.4.1.1 Thiết lập đơn pha chế 54 3.4.1.2 Điều chỉnh chế độ gia công 55 3.4.2 Tối ưu hàm lượng than đen 55 3.4.2.1 Thử nghiệm tối ưu hàm lượng than đen 55 3.4.2.2 Kết qủa thử nghiệm ảnh hưởng của than đen đến tính năng cơ lý 56 3.4.2.3 Kết qủa thử nghiệm ảnh hưởng của than đen đến đặc tính lưu hoá 58 3.4.2.3 Bàn luận về ảnh hưởng của than đen đến tính chất của blend 60 3.4.3 Tối ưu hàm lượng chất trợ tương hợp 62 3.4.3.1 Thử nghiệm tối ưu hàm lượng chất trợ tương hợp 62 3.4.3.2 Kết quả thử nghiệm ảnh hưởng của hàm lượng trợ tương hợp tính năng cơ lý 63 3.4.3.3 Kết qủa thử nghiệm ảnh hưởng của trợ tương hợp đến đặc tính lưu hoá 65 3.4.3.3 Bàn luận về ảnh hưởng của trợ tương hợp đến tính chất của blend 68 3.4.4 Tính ổn định của vật liệu 70 3.4.4.1 Ổn định của vật liệu blend Cao su Thiên nhiên NR với CSTNgAM (G2, I2) 71 3.4.4.2 Ổn định của vật liệu blend cao su NBR với dầu hạt điều (H1, K1) 73 3.4.4.3 Hàm lượng acrylat linh động trong blend 75 Kết luận mục 3.4 76 3.5 Đề xuất qui trình tái chế photoresist tạo blend polyme 78 3.5.1 Qui trình công nghệ đề xuất 78 3.5.1.1 Công nghệ và phương án xử lý 78 3.5.1.2 Vận hành của dây chuyền 79 3.5.1.3 Thiết bị, mặt bằng sản xuất 80 3.5.1.4 Đặc tính của sản phẩm tái chế 81 3.5.2 Đặc tính kinh tế môi trường của dây chuyền tái chế 83 3.5.2.1 Mục tiêu của dự án 83 3.5.2.2 Mức đầu tư và nguồn vốn 83 3.5.2.3 Dòng tiền tệ của dự án 85 3.5.2.4 Đánh giá phương án xử lý 86 v 3.5.3 Đánh giá các phương án xử lý 86 3.5.3.1 Đặt vấn đề, đánh giá rủi ro 86 3.5.3.2 Xu hướng dịch chuyển của PR 88 3.5.3.3 Rủi ro của các phương án 89 Kết luận mục 3.5 92 KẾT LUẬN CHUNG 93 4.1 Kết luận 93 4.1.1 Photoresist phế thải nguồn và tải lượng 93 4.1.2 Photoresist phế thải và môi trường 93 4.1.3 Nghiên cứu tái chế 93 4.1.3.1 Các hệ blend thăm dò 93 4.1.3.2 Điều chỉnh thành phần và công nghệ phù hợp 94 4.1.4 Đề xuất qui trình công nghệ xử lý 94 4.2 Kiến nghị 95 4.2.1 Thúc đẩy các hoạt động nghiên cứu, quản lý sản phẩm và chất thải 95 4.2.2 Tạo điều kiện thực hiện xử lý PR bằng cách tái chế tạo blend polyme 95 TÀI LIỆU THAM KHẢO 96 PHỤ LỤC 104 Phụ lục mục 3.5 (Tính kinh tế môi trường) 104 Phụ lục chung của báo cáo 108 vi CHỮ VIẾT TẮT TỪ TIẾNG VIỆT BVMT Bảo vệ môi trường BCL Bãi chôn lấp CTNH Chất thải nguy hại CSTNgAM Cao su thiên nhiên maleic hoá Cty Công ty CTR Chất thải rắn ĐHBK Đại học Bách khoa ĐH Đại học HCM Thành phố Hồ Chí Minh HD dầu hạt điều KCN Khu công nghiệp KCNC Khu công nghệ cao NCKH Nghiên cứu khoa học NM Nhà máy TCVN Tiêu chuẩn Việt Nam TNHH Trách nhiệm hữu hạn TNMT Tài nguyên và Môi trường TT Trung tâm TTH trợ tương hợp PTN Phòng thí nghiệm Photoresist Nhựa cảm quang PR Nhựa cảm quang phế thải P/t Phương trình QCVN Qui chuẩn Việt Nam QS Quân sự UBND Ủy ban nhân dân VINAUSEN Công ty Cổ phần Môi trường Việt Úc Diễn giải một số thuật ngữ/ khái niệm trong báo cáo: - Blend là hỗn hợp của nhiều hợp phần (Từ điển Oxford, 1984). Polyme blend hay polyme mixture là thành viên của dòng vật liệu tương tự như hợp kim bao gồm ít nhất 2 polyme trộn với nhau tạo nên vật liệu mới có tính chất khác biệt (Wikipedia, 2010). Blend có cùng ý nghĩa với hỗn hợp (mixture) nhưng được dùng phổ biến trong công nghệ polyme - Tác giả. - Photoresist hay resist chỉ loại chất dễ dàng tham gia phản ứng quang hoá làm thay đổi tính tan của chúng khi bị phơi sáng hay dưới tác dụng của các bức xạ nói chung . Trong nghiên cứu này photoresist hay resist còn được Việt hoá là chất cảm quang, hay nhựa cảm quang. Thuật ngữ Việt hoá này không nhằm định nghĩa mà chỉ để tạo thuận lợi cho người đọc - Tác giả vii CHỮ VIẾT TẮT TỪ TIẾNG ANH (Chữ viết tắt Tiếng Anh đầy đủ/ Tiếng Việt) 3T Temperature, time, turbulence/ Nhiệt độ, thời gian lưu, xáo trộn 3 R Reduce, reuse, recycle/ tối thiểu, tái sử dụng, tái chế ASE Center of Analytical Services and Experimentation HCMC/ TT. Dịch vụ Phân tích Thí nghiệm Tp. HCM DFR Dry Film Resist/ Phim khô cảm quang DTA Differential Thermal Analysis/ phân tích nhiệt vi sai CERCLA Comprehensive Environmental Response, Compensation, and Liability Act Luật về Trách nhiệm pháp lý, Đền bù Phản hồi Môi trường Tích cực (1980) EMAS Eco- Management and Audit Scheme/ Hệ thống Quản lý Sinh thái và Kiểm toán EPA Environmental Protection Agency/ Cơ quan Bảo vệ Môi trường Hoa Kỳ ETM Center for Environmental Technology & Management/ TT. Công nghệ và Quản lý Môi trường FE Field emission/Phát xạ trường ICP Inductively coupled Plama/ Plasme cảm ứng kết hợp ICP-MS Inductively coupled Plama – mass spectrometry/ Plasme cảm ứng kết hợp khối phổ IPC The Institute for Interconecting and Packaging Electronic Circuits/ Viện Mạch điện đóng gói và kết nối IRE Institute of Environment and Resources/ Viện Môi trường và Tài nguyên IRS Infrared spectrograpgy/ Phổ hồng ngoại GC Gas chromatography/ Sắc ký khí GC-MS Gas chromatography-mass spectrometry/ Sắc ký khí ghép khối phổ MATC Maximum Acceptable Toxicant Concentration/ Giá trị ngưỡng độc tính cấp MCC Microelectronic and Computer Technology Corporation/ Công ty Vi điện tử và Công nghệ máy tính NBR Acrylonitril butadien rubber/ Cao su nitril NR Natural rubber/ Cao su thiên nhiên TCLP Toxicity Characteristic leaching Procedure/ Qui trình ngâm chiết xác định độc tính TGA Thermal Gravity Analysis /nhiệt trọng lượng PWB Printed Wire Board/ Bo mạch điện RCRA Resource Conservation and Recovery Act/ Luật về Bảo tồn và Thu hồi Tài nguyên - "Wreck-rah” (1976) SEM Scan Electronic Microscopre/ Hiển vi điện tử quét VITTEP Institute for Tropical technology and Environmental protection/ Viện Kỹ thuật Nhiệt đới và Bảo vệ Môi trường viii DANH SÁCH BẢNG VÀ HÌNH Danh sách bảng Bảng 2.1 Tổng hợp các đơn blend dùng trong nghiên cứu Bảng 3.1 Thông tin về quản lý CTNH ở địa bàn Bảng 3.2 Tổng hợp khối lượng CTNH có lẫn PR từ công nghiệp sản xuất linh kiện điện tử Tp. Hồ Chí Minh Bảng 3.3 Khối lượng PR do các đơn vị của Tp. Hồ Chí Minh thu gom, vận chuyển và xử lý Bảng 3.4 Tổng hợp lượng CTNH lẫn PR ở tỉnh Bình Dương Bảng 3.5 Khối lượng PR được vị thu gom, vận chuyển và xử lý ở tỉnh Bình Dương Bảng 3.6 Tổng hợp khối lượng CTNH lẫn photoresist, tỉnh Đồng Nai Bảng 3.7 Tổng hợp lượng CTNH phát sinh và thu gom (tấn/tháng) Bảng 3.8 Tổng hợp các nguồn photoresist phế thải được phân loại Bảng 3.9 Thành phần các kim loại nặng được kiểm tra trên mẫu PR Bảng 3.10 Hàm lượng acrylat theo etyl metacrylat của PR Bảng 3.11 Kết quả phân tích các thông số môi trường của nước rửa Bảng 3.12 Ma trận các phương án thăm dò Bảng 3.13 Hàm lượng PR trong dãy mẫu của hệ thăm dò Bảng 3.14 Ký hiệu các nhóm mẫu Bảng 3.15 Ký hiệu các nhóm mẫu Bảng 3.16 Tổng hợp các tính chất của hệ thăm dò NR Bảng 3.17 Tổng hợp các tính chất của hệ thăm dò NBR Bảng 3.18 Tiêu chí lựa chọn hệ blend cho các nghiên cứu tiếp Bảng 3.19 Đánh giá chọn lựa hệ blend cho nghiên cứu Bảng 3.20 Ký hiệu các nhóm mẫu cao su thiên nhiên và tổng hợp Bảng 3.21 Biến thiên moment Max và thời gian theo hàm lượng than đen (blend NR-G) Bảng 3.22 Biến thiên moment Max và thời gian theo hàm lượng than đen (blend NBR-H) Bảng 3.23 Ký hiệu các nhóm mẫu cao su thiên nhiên và tổng hợp (I1, I2, K1, K2) Bảng 3.24 Biến thiên moment max, và thời gian theo hàm lượng than đen (blend NR-I) Bảng 3.25 Biến thiên moment max và thời gian theo hàm lượng than đen (blend NBR-K) Bảng 3.26 Hàm lượng acrylat (ppm) linh động trong các mẫu blend theo hàm lượng PR Bảng 3.27 Hàm lượng acrylat (ppm) linh động trong các mẫu blend theo hàm lượng than Bảng 3.28 Danh sách thiết bị chính của dây chuyền Bảng 3.29 Đơn pha trộn cho 2 loại sản phẩm Bảng 3.30 Đặc tính của sản phẩm Bảng 3.31 Kết quả đo đạc mẫu kiểm tra Bảng 3.32 Tính định phí dự án Bảng 3.33 Dòng tiền lưu của cơ sở ix Danh sách hình Hình 1.1 Các hợp phần của phim khô resist Hình 2.1 Sơ đồ quá trình cán trộn chảy của 2 polyme Hình 3.1 Cấu trúc hệ thống văn bản quản lý môi trường Hình 3.2 Sơ đồ đăng ký quản lý CTNH trên địa bàn Tp.Hồ Chí Minh Hình 3.3 Sơ đồ khối quá trình sản xuất bo mạch sử dụng phim cảm quang khô Hình 3.4 Sơ đồ xử lý photoresist phế thải tại VINAUSEN Hình 3.5 Phổ IR của nguyên mẫu PR Hình 3.6 Giá trị trung bình hàm lượng chất tan (hàm ướt) của các mẫu PR Hình 3.7 Giá trị trung bình hàm lượng chất tan (hàm khô) của các mẫu PR Hình 3.8 Giản đồ nhiệt của nguyên mẫu PR Hình 3.9 Công thức tổng quát của photoresist phế thải Hình 3.10 Biến thiên kéo đứt theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.11 Biến thiên dãn dài theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.12 Biến thiên độ cứng theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.13 Biến thiên trương nở trong nước theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.14 Biến thiên trương nở trong dầu theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.15 Biến thiên moment Max theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.16 Biến thiên thời gian đạt moment Max theo hàm lượng PR (blend NBR) Hình 3.17 Ảnh SEM của blend NBR-PR (E1) chứa 20 % PR Hình 3.18 Ảnh SEM của blend NBR-PR-HD (E3) chứa 20 % PR Hình 3.19 Biến thiên kéo đứt theo hàm lượng PR (blend NR) Hình 3.20 Biến thiên dãn dài theo hàm lượng PR (blend NR) Hình 3.21 Biến thiên độ cứng theo hàm lượng PR (blend NR) Hình 3.22 Biến thiên trương nở trong nước theo hàm lượng PR (blend NR) Hình 3.23 Biến thiên moment Max theo hàm lượng PR (blend NR) Hình 3.24 Biến thiên thời gian đạt moment Max theo hàm lượng PR (blend NR) Hình 3.25 Ảnh SEM blend NR chứa 20%PR Hình 3.26 Ảnh SEM blend NR chứa 20%PR và TTT CSTNgAM Hình 3.27 Biến thiên kéo đứt theo hàm lượng than đen (mẫu NR-G) Hình 3.28 Biến thiên dãn dài theo hàm lượng than đen (mẫu NR-G) Hình 3.29 Biến thiên độ cứng theo hàm lượng than đen (mẫu NR-G) Hình 3.30 Biến thiên kéo đứt theo hàm lượng than đen (mẫu NBR-H) Hình 3.31 Biến thiên dãn dài theo hàm lượng than đen (mẫu NBR-H) Hình 3.32 Biến thiên độ cứng theo hàm lượng than đen (mẫu NBR-H) Hình 3.33 Đường cong lưu hoá mẫu G1 (trợ tương hợp HD) Hình 3.34 Đường cong lưu hoá mẫu G2 (trợ tương hợp CSTNgAM) Hình 3.35 Đường cong lưu hoá mẫu H1 (trợ tương hợp HD) Hình 3.36 Đường cong lưu hoá mẫu H2 (trợ tương hợp CSTNgAM) Hình 3.37 Biến thiên kéo đứt theo hàm lượng trợ tương hợp (mẫu NR-I) Hình 3.38 Biến thiên dãn dài theo hàm lượng trợ tương hợp (mẫu NR-I) Hình 3.39 Biến thiên độ cứng theo hàm lượng trợ tương hợp (mẫu NR-I) x [...]... blend cao su c chn do tớnh thõn thin v kh nng a vo s dng thc t Hai nhúm cao su c bn chn lm vt liu nn l cao su khụng phõn cc i din l cao su thiờn nhiờn (NR) v cao su phõn cc vi i din l cao su neoprene (CR) v cao su nitril (NBR) Bờn cnh cỏc thnh phn c bn ca blend cao su nh nhng cht n, xỳc tin, lu hoỏ v cỏc cht hoỏ do, chỳng ta cn th nghim tỡm ra cht tr tng hp thớch hp Maleic anhydrid, cao su epoxy, du cao. .. photoresist; hoc (ii) lm tng phõn cc ca cao su thiờn nhiờn; (iii) a thờm lng cht phõn tỏn ci thin phõn b ca cỏc cu t 11 Qua kho sỏt ban u mt s cht tr tng hp, trong nghiờn cu ny s thm dũ mt s h tr tng hp cho phộp to cỏc blend cao su thiờn nhiờn, cao su phõn cc vi photoresist C th nghiờn cu s s dng mt s cht tr tng hp: NR maleic hoỏ, cao su epoxy, du ht iu v cao su acrylat lm cht tr tng hp Quỏ trỡnh to... chn nghiờn cu v cỏc nguyờn liu ph kốm theo 2.2.1 Nguyờn liu chớnh (nn) - Cao su thiờn nhiờn Vit Nam CSV 5L - Cao su nitril KOSYN 35L, Hn Quc - Cao su Neoprene, Baypren 110, c 2.2.2 Nguyờn liu ph tr - Cao su NR maleic hoỏ do Vin K thut Nhit i v Bo v Mụi trng ch to - Cao su acrylat ca Hoa K - Cao su ENR 50 do Vin Hoỏ hc Vt liu Vin Khoa hc Cụng ngh QS ch to - Du ht iu ca c s Thnh Cụng, 357 Tõn Ho ụng,... ch photoresist ph thi t sn xut bo mch in theo hng bin tớnh vi cao su nha Mc tiờu c th: 1 Xỏc nh c tớnh ca photoresist ph thi 2 Th nghim blend cao su, nha vi photoresist ph thi v xut hng s dng blend 3 Ni dung nghiờn cu Cn c theo cng ó c phờ duyt v mc tiờu ó xỏc nh, ti tp trung vo mt s ni dung nghiờn cu sau: 3.1 Nghiờn cu iu tra tỡnh hỡnh qun lý CTNH v photoresist ph thi, lm rừ cỏch qun lý cht thi photoresist, ... nh cha ph thi photoresist (waste photoresist developing solution) SUGAWARA HIROSHI; HENMI HIROMI JP63294989 [120]; Phng phỏp thu hi thuc hin t dung dch thi cha photoresist TAJIMA YOSHINOBU; 6 SUGAWARA HIROSHI JP2003215810 [124]; Quỏ trỡnh v thit b thu hi thuc hin t cht thi thuc hin photoresist v tỏi s dng SUGAWARA HIROSHI (JP) US2001003481 [121]; X lý cht thi lng hin hỡnh photoresist SUGAWARA HIROSHI... a gia cỏc polyme [93] Cỏc gii phỏp tng quỏt ho trn nhiu polyme trong k thut: S dng cỏc cu t cú kh nng tng tỏc vi thnh phn trong h S dng cỏc tỏc nhõn tng hp Bin tớnh mt hay nhiu thnh phn ca h blend to sn phm tng hp Nhng h trn hp cú ý ngha kinh t k thut quan trng cú th chia theo bn cht vt liu ban u: (i) H trn hp cao su /cao su; (ii) H trn hp cao su /nha Trong trng hp ny h c nghiờn cu l h loi cao su/ nha... tỏch lc photoresist dng bn bng phng phỏp hũa tan, lc v b sung dung mụi iu chnh nht ca photoresist [65] v sau ú tỏi s dng trong cụng ngh Will Conley, (1999) cp ti tỏi ch photoresist dng bn thụng qua quỏ trỡnh tỏch loi photoresist nhit phũng s dng thit b ỏp lc Photoresist sau ú c s dng theo mt t l vi photoresist sch [139] X lý polyme photoresist Phng phỏp t Phng phỏp t c ỏp dng ph bin x lý photoresist. .. cao su epoxy, du cao su, du iu, v c chớnh cao su nh acrylat hay nitril c s dng nh cht tr tng hp Cỏch tip cn mi ca ti l tỏi ch cht thi photoresist trong iu kin thit b v cụng ngh hin cú trờn a bn Tp HCM, trong phm vi cho phộp ca phỏp lut hin hnh liờn quan ti cỏc sn phm k thut cú s dng cỏc thnh phn tỏi ch T hai nhúm cao su, cú th cú c hai nhúm sn phm tng ng Sn phm blend t (1) cao su phõn cc phự hp cho... trong trng chy B mt giao din tng t l v kớch thc cc b gim xung vuụng gúc vi 17 hng dũng chy Trong trng hp 2 polyme chy nht, bin dng ht ch yu quyt nh bi s mao dn (Ca) Cú ngha l t s ng sut (bin dng) ct () tỏc ng vo git bi trng chy ni v hỡnh dng cu to nờn ng sut giao din (s/R) (2.5) Trong ú s l sc cng (ng sut) b mt, R bỏn kớch cu cc b Vi s mao dn nh, ng sut giao din l yu t chớnh ng gõy sut ct v hỡnh git... 3.5 xut qui trỡnh tỏi ch photoresist to blend vi polyme Nghiờn cu trỡnh by qui trỡnh sn xut 2 h sn phm l (i) h sn phm t blend PR vi cao su tng hp: cao su chu du - ng chu du; (ii) h sn phm t blend PR vi cao su thiờn nhiờn: vũng m ng bờ tụng ly tõm Mụ t cỏc c tớnh k thut v tớnh kinh t mụi trng ca sn phm, qui trỡnh 4 Sn phm ca ti 1 Bỏo cỏo tng hp th hin c tớnh cht c bn ca photoresist ph thi; nờu c . ĐẦU 1.Tên đề tài NGHIÊN CỨU TÁI CHẾ PHOTORESIST PHẾ THẢI LÀM PHỤ GIA BIẾN TÍNH CAO SU NHỰA KỸ THUẬT Chủ nhiệm đề tài: Th.S. Vương Quang Việt Cơ quan chủ trì: Viện Kỹ thuật Nhiệt đới và. chính: Tái chế photoresist phế thải từ sản xuất bo mạch điện theo hướng biến tính với cao su nhựa Mục tiêu cụ thể: 1. Xác định đặc tính của photoresist phế thải 2. Thử nghiệm blend cao su, nhựa. 1.2 Nghiên cứu ứng dụng quang khắc 4 1.3 Tình hình nghiên cứu 5 1.3.1 Tình hình nghiên cứu ngoài nước 5 1.3.2 Các nghiên cứu trong nước 8 1.4 Cách tiếp cận của nghiên cứu 9 1.4.1 Photoresist

Ngày đăng: 08/02/2015, 00:00

Từ khóa liên quan

Tài liệu cùng người dùng

Tài liệu liên quan